參數
| 方法名稱 | 基于條紋投影相移原理 |
| XY像素大小 | 1.1 μm x 1.1 μm |
| Z方向測量范圍 | 1 μm – 60 μm |
| 測樣區域 | 1.41 mm x 1.06 mm (XY). (最大到： 4.2 mm x 4.2 mm) |
| 工作距離 | 18 mm |
| 樣品尺寸上限 | 無限x 320 mm x 22 mm (L x W x H) |
| 成像選項 | 光學圖像, 2D粗糙度圖, 3 D粗糙度圖 |
| 每次測量持續時間 | 5-30 s |
| 分析參數(ISO 4287, ISO 4288) | r (Wenzel 方程)；θc, 粗糙度修正接觸角/Wenzel接觸角；Sdr (%), Sa (μm), Sq (μm)；水平、垂直和 2D 線形區域的Ra, Rq,Rp, Rv, Rz, R10z |
| 波紋過濾 | 高斯高通濾波器（ISO 11562） |
| 樣品要求/局限性 | 需要漫反射面 |
硬件
| 尺寸 | 17 cm x 16.5 cm x 11.5 cm |
| 重量 | 2.6 kg |
| 電壓 | 100~240 VAC |
| 頻率 | 50-60 Hz |
系統要求
| 計算機 | 2G處理器，4G內存，500G硬盤，1920x1080分辨率顯示器，1個USB3.0端口 |
| 要求配置 | XYZ全自動樣品臺 |
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